在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。
在机房电源巡检过程中出现零―地电压超标的情况，可能原因有（）。
酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。
属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。
酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。
人们在群体过程中可能会出现去个性化的行为的原因有（）。
在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。
酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。
酸性氯化铜蚀刻体系中常用的氯化物的种类为（）。
晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
井站加注缓蚀剂和防冻剂主要采用J系列计量泵，在使用过程中，出现了泵的压力达不到性能参数的现象，分析其原因为（）。
在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。
所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液，大部分金属不可用酸性蚀刻液，金除外。
氯碱生产中，出现吸收塔大量冒氯化氢的原因可能有（）。 ①塔内氯化氢分压增大②吸收水量过少③氯化氢纯度低
在故障处理过程中，出现Ping包丢包，可能的原因有（）。
在休克治疗过程中出现中心静脉压（CVP）升高可能的原因有（）。
酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高，会使（）。
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。
在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻过度的原因可能有（）。
冻融过程中可能出现的破坏情况有()。
动火作业可能发生灼烫、触电等人身伤害，由于动火作业过程也可能涉及高处作业、受限空间作业等，所以在动火过程中也有可能发生高处坠落、中毒窒息、触电、作业环境破坏等事故。而导致这些事故的原因是人的不安全行为和物的不安全状态。下列选项中，不属于该原因的是（）
