选择无牙颌印模托盘时不正确的是,托盘（)。

A . 腭小凹处 B . 腭小凹后3～4mm C . 颤动线前2mm D . 颤动线前1mm E . 与颤动线平齐

A . 可用自凝塑胶制作 B . 在初印模上制作 C . 可用患者旧义齿制作 D . 上颌个别托盘后堤区不要超过颤动线 E . 下颌个别托盘应包过磨牙后垫及下颌舌骨线

A . 伸展到离唇、颊、舌沟底约0.5cm B . 以不妨碍周边软组织活动为准尽可能地伸展 C . 包括整个边缘区 D . 应伸展到一切非硬性倒凹区 E . 应伸展到唇、颊、舌沟的底部

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 使组织均匀受压 D . 使用藻酸盐印模材料 E . 保持托盘位置不动

A . A.尽可能扩大印模面积 B . B.取功能性印模 C . C.使组织均匀受压 D . D.使用藻酸盐印模材料 E . E.保持托盘位置不动

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 使组织均匀受压 D . 使用藻酸盐印模材料 E . 保持托盘位置不动

A . 印模细致、清晰 B . 边缘尽量伸展 C . 边缘要圆钝，有一定厚度 D . 组织受压均匀 E . 采取功能性印模

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 使组织均匀受压 D . 使用弹性印模材料 E . 保持托盘位置不动

A . A.在翼上颌切迹与腭小凹的连线上 B . B.超过颤动线0.5mm C . C.超过颤动线1mm D . D.与颤动线平齐 E . E.超过颤动线3～4mm

A . A．上颌后堤 B . B．下颌磨牙后垫区 C . C．舌隆突 D . D．远中颊角区 E . E．下颌舌骨嵴

A . 包括整个牙槽嵴 B . 边缘伸展到唇颊舌沟黏膜皱襞转折处 C . 上颌后缘伸展到腭小凹后2mm处 D . 上颌后缘与后颤动线一致 E . 上颌两侧后缘伸展到翼上颌切迹

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 不用使组织均匀受压 D . 使用弹性小的印模材料 E . 保持托盘一侧不动

A . A．上颌后堤区 B . B．上颌腭隆突 C . C．下颌磨牙后垫区 D . D．颊棚区 E . E．切牙乳突

A、中部盖过腭小凹后2mm B、低于唇颊粘膜皱襞2mm C、高于唇颊粘膜皱襞2mm D、A+B E、A+C 标准答案D"

A . 与颤动线平齐 B . 超过颤动线3～4mm C . 在翼上颌切迹与腭小凹的连线上 D . 超过颤动线0.8mm E . 在颤动线前5mm

A . 边缘应与唇颊沟等高 B . 宽度应比上颌牙槽嵴宽2～3mm C . 后缘盖过后颤动线3～4mm D . 长度应盖过翼上颌切迹 E . 系带处有相应切迹

A . 边缘应与唇颊沟等高 B . 宽度应比上颌牙槽嵴宽2～3mm C . 后缘盖过后颤动线3～4mm D . 长度应盖过翼上颌切迹 E . 系带处有相应切迹

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 使组织均匀受压 D . 使用藻酸盐印模材料 E . 保持托盘位置不动

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 不用使组织均匀受压 D . 使用弹性小的印模材料 E . 保持托盘一侧不动