关于取印模时边缘整塑，错误的是

A . 拉动唇颊部，在上颌向前下，下颌向前上 B . 拉动唇颊部，在上颌向后下，下颌向后上 C . 拉动唇颊部，在上颌向前上，下颌向前下 D . 拉动唇颊部，在上颌向后上，下颌向后下 E . 嘱患者活动唇颊部，并作伸舌等动作

A . 整塑为了便义齿有良好的边缘封闭 B . 不可用印模膏做 C . 制作个别托盘后不需要 D . 可由医师牵拉患者面颊部 E . 可以分区做

A . 人工牙排列位置 B . 基托边缘位置与形态 C . 基托与黏膜密合程度 D . 基托磨光面形态 E . 基托组织面形态

A . 整塑为了便义齿有良好的边缘封闭 B . 不可用印模膏做 C . 制作个别托盘后不需要 D . 可由医师牵拉患者面颊部 E . 可以分区做

A . 个别托盘印模法 B . 二次印模法 C . 分段印模法 D . 分瓣印模法 E . 分层印模法

A . A.1～2mm B . B.2～3mm C . C.3～4mm D . D.4～5mm E . E.5～6mm

A . 便于操作 B . 能获得颌骨形态 C . 使组织能受压均匀 D . 可使印模边缘模糊 E . 可使边缘适度伸展

A . A．整塑为了便义齿有良好的边缘封闭 B . B．不可用印模膏做 C . C．制作个别托盘后不需要 D . D．可由医师牵拉患者面颊部 E . E．可以分区做

A . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向下，下颌向前向上 B . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向下，下颌向后向上 C . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向上，下颌向前向下 D . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向上，下颌向后向下 E . 嘱患者轻轻活动唇颊部，并做吞咽、伸舌等动作

A . A.扩展印模范围，利于基托固位 B . B.利于基托边缘封闭 C . C.利于印模清晰、准确 D . D.为二次印模做准备 E . E.利于人工牙的排列

A . 用解剖印模法 B . 取功能性印模 C . 用石膏一次印模 D . 用有孔托盘 E . 舌侧托盘边缘加高

A . 藻酸盐印模材料 B . 硅橡胶印模材料 C . 琼脂印模材料 D . 印模膏 E . 印模石膏

A . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向下，下颌向前向上 B . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向下，下颌向后向上 C . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向上，下颌向前向下 D . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向上，下颌向后向下 E . 嘱患者轻轻活动唇颊部，并做吞咽、伸舌等动作

A . 人工牙排列位置 B . 基托磨光面形态 C . 基托组织面形态 D . 基托边缘位置与形态 E . 基托与黏膜密合程度

A . A．轻拉唇颊部，在上颌向前向下，下颌向前向上 B . B．轻拉唇颊部，在上颌向后向下，下颌向后向上 C . C．轻拉唇颊部，在上颌向前向上，下颌向前向下 D . D．轻拉唇颊部，在上颌向后向上，下颌向后向下 E . E．嘱患者轻轻活动唇颊部，并作吞咽、伸舌等动作

A . 藻酸盐印模材料 B . 硅橡胶印模材料 C . 琼脂印模材料 D . 印模膏 E . 印模石膏

A . 1～2mm B . 2～3mm C . 3～4mm D . 4～5mm E . 5～6mm

A . A．用解剖印模法 B . B．取功能性印模 C . C．用石膏一次印模 D . D．用有孔托盘 E . E．舌侧托盘边缘加高

A . A.藻酸盐印模材料 B . B.硅橡胶印模材料 C . C.琼脂印模材料 D . D.印模膏 E . E.印模石膏

A . 藻酸盐印模材料 B . 硅橡胶印模材料 C . 琼脂印模材料 D . 印模膏 E . 印模石膏

A.藻酸盐印模材料 B.硅橡胶印模材料 C.琼脂印模材料 D.印模膏 E.印模石膏

A．整塑为了使义齿有良好的边缘封闭 B．不可用印模膏做 C．制作个别托盘后不需要 D．可由医师牵拉患者面颊部 E．可以分区做

A．用解剖印模法 B．取功能性印模，注意肌功能整塑 C．用石膏一次印模 D．用有孔托盘 E．舌侧托盘边缘加高