什么是大体积充填（bulk-fill)复合树脂？

A . A．观察 B . B．脱敏 C . C．去除旧充填体，复合树脂重新充填 D . D．去除旧充填体，氧化锌丁油糊剂安抚 E . E．牙髓治疗

A . A．洞缘及点线角圆钝 B . B．前牙可保留无基釉 C . C．不必做固位形 D . D．洞缘线圆缓 E . E．洞缘制备成斜面

A . 甲基丙烯酸甲酯（稀释剂） B . N，N－二羧乙基对甲苯胺（促进剂） C . 双酚A甲基丙烯酸缩水油脂类 D . 2，6－二羧丁基对甲酚（阻聚剂） E . 都不正确

A . 丁香油水门汀 B . 磷酸锌水门汀 C . 聚羧酸锌水门汀 D . 氢氧化钙制剂

A . 丁香油水门汀 B . 磷酸锌水门汀 C . 聚羧酸锌水门汀 D . 氢氧化钙制剂 E . 玻璃离子

A . 传统型、大颗粒型、超微型、混合型 B . 化学固化型、热固化型、光固化型 C . 前牙复合树脂、后牙复合树脂、通用型复合树脂 D . 单糊剂、双糊剂、粉液型 E . 直接充填型、间接修复型、通用型复合树脂

A . 洞缘釉质处 B . 洞壁牙本质处 C . 洞缘的釉质牙本质处 D . 洞缘的牙骨质处 E . 洞缘的咬合接触点处

A . 制备了固位形 B . 牙齿表面未注意清洁 C . 酸蚀后的牙面接触唾液 D . 未制备洞斜面 E . 充填体过薄

A . 底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . 洞缘角应成直角，不宜在洞缘角制备短斜面 E . 无需去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . 洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，需去净无基釉 E . 无须去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 小缺损及中等缺损设计应尽量保守 B . 仅在釉质壁做斜面 C . 范围大的缺损应预备固位形 D . 固位形的设计可为固位沟 E . 以上都正确

A . 制备了固位形 B . 牙齿表面未注意清洁 C . 酸蚀后的牙面接触唾液 D . 未制备洞斜面 E . 充填体过薄

A . 点线角应圆钝，洞缘釉质壁应制成斜面，倒凹宜呈圆弧形 B . 底要平，洞壁要直，洞形必须要深 C . 要去尽无基釉质，增加抗力形 D . 为制备获得良好的固位形，必须磨除正常的牙体组织 E . 无需去尽无基釉质，也无需在洞缘角制备短斜面

A . 甲基丙烯酸甲酯（稀释剂） B . N，N二羧乙基对甲苯胺（促进剂） C . 双酚A甲基丙烯酸缩水油脂类 D . 2，6-二叔丁基对甲酚（阻聚剂）

A . 底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . 洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，需去净无基釉 E . 无须去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 用氧化锌丁香油水门汀作基底 B . 用磷酸锌水门汀作基底 C . 不必用基底 D . 用羧酸锌水门汀作基底 E . 都不正确

A . A．底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . B．点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . C．应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . D．洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，需去净无基釉 E . E．无需去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 防止继发龋 B . 增加黏结面积 C . 提高抗力性 D . 去除悬釉 E . 增加树脂的聚合收缩

A . A．丁香油水门汀 B . B．磷酸锌水门汀 C . C．聚羧酸锌水门汀 D . D．氢氧化钙制剂 E . E．玻璃离子

A . 底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . 洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，需去净无基釉 E . 无需去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 洞缘及点线角圆钝 B . 前牙可保留无基釉 C . 不必做固位形 D . 洞缘线圆缓 E . 洞缘制备成斜面

A . 底平壁直，洞形必须达到一定的深度 B . 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面 C . 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形 D . 洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，须去净无基釉 E . 无须去净无基釉，但要有良好的抗力形

A . 0.5mm B . 1.0mm C . 1.5mm D . 2.0mm E . 3.0mm