下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。患者提出义齿基托表面不平,其主要原因是()
在调配塑料的过程中,当调和物表面有痂形成,弹性大,而且其可塑性已消失,由此我们可以判定调和物此时处于()
试压后分开上下层型盒,除了检查塑料的填塞量是否合适、是否有石膏碎屑压人塑料、支架与人工牙是否发生移位外,还要注意检查________的完整性是否被破坏。
在充填塑料加压后,分开型盒时,若充填塑料的量不足,表现为()在充填塑料加压后,分开到盒时,若充填塑料的量已足够,表现为()
某患者的半口义齿蜡型,烫盒后打开型盒时发现,塑料牙未能翻至上半盒内,冲蜡后复位不牢,其原因是()
某患者的半口义齿蜡型,烫盒后打开型盒时发现,塑料牙未能翻至上半盒内,冲蜡后复位不牢,其原因是()。
热凝牙托粉与牙托水调和什么时期是充填型盒的最佳时期()
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。基托表面细磨时应保持湿润,其目的是()
装盒时,人工牙的牙合面与上层型盒顶部之间的间隙至少应该有()。
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。该义齿在细磨中最容易发生下列哪种问题?()
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。基托表面细磨时应保持湿润,其目的在于()。
装盒时,人工牙的面与上层型盒顶部之间的间隙至少应该有()
上颌 https://assets.asklib.com/psource/2015101515165543696.jpg 缺失, https://assets.asklib.com/psource/2015101515165920608.jpg 弯制卡环,腭侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。 牙冠与基托塑料连接不牢,可能的原因为()
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。该义齿在细磨中最容易发生的问题是()
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。此类义齿在粗磨中最容易出现下列哪项问题?()
下颌 https://assets.asklib.com/images/image2/2017041819363583752.jpg 缺失, https://assets.asklib.com/images/image2/2017041819363987202.jpg 弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。 该义齿完成后发现牙和基托塑料连接不牢,出现这种情况的原因以下叙述错误的是()
上颌 https://assets.asklib.com/psource/2015101515165543696.jpg 缺失, https://assets.asklib.com/psource/2015101515165920608.jpg 弯制卡环,腭侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。 装盒、去蜡、填胶、热处理后开盒发现基托中有气泡,其原因不包括()
装盒时,人工牙的面与上层型盒顶部之间的间隙至少应该有()
充填塑料时,未清除上下型盒间多余塑料,可导致_________升高。
上颌 https://assets.asklib.com/psource/2015101515165543696.jpg 缺失, https://assets.asklib.com/psource/2015101515165920608.jpg 弯制卡环,腭侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。 技师用混装法先装下半型盒,泡水20分钟,涂肥皂水装上半型盒,半小时后,沸水泡10分钟准备开盒去蜡,但开盒十分困难,其原因是()
下颌C67D56缺失,C58D47弯制卡环,舌侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。此类义齿在粗磨中最容易出现的问题是()
上颌 https://assets.asklib.com/psource/2015101515165543696.jpg 缺失, https://assets.asklib.com/psource/2015101515165920608.jpg 弯制卡环,腭侧为塑料基托连接的义齿蜡型,采用混装法装入型盒,常规去蜡,充填,磨光。 充填中可能出现支架移位,可能的原因为()
在调配塑料的过程中,当调和物表面有痂形成,弹性大,而且其可塑性已消失,由此我们可以判定调和物此时处于()