下列哪种印模时必须做肌功能修整()

A . 拉动唇颊部，在上颌向前下，下颌向前上 B . 拉动唇颊部，在上颌向后下，下颌向后上 C . 拉动唇颊部，在上颌向前上，下颌向前下 D . 拉动唇颊部，在上颌向后上，下颌向后下 E . 嘱患者活动唇颊部，并作伸舌等动作

A . 功能性印模 B . 记存印模 C . 参考印模 D . 对颌牙印模 E . 解剖式印模

A . 轻轻拉上唇向上内数次 B . 轻轻拉下唇向上内数次 C . 轻轻拉颊部向前下内、下颊部向前上内数次 D . 嘱患者相继发出"喔"、"嘿"等音 E . 以上均不对

A . 医生站在患者的右后方 B . 托盘柄对准面部中线 C . 肌功能修整时，牵拉颊部肌肉向下前内方向 D . 合适的个别托盘放入口内，在唇、颊、舌活动时保持不动 E . 利用个别托盘取模可以不做边缘整塑

A . 功能性印模 B . 固定义齿印模 C . 工作模型印模 D . 解剖式印模 E . 对牙印模

A . A.功能性印模 B . B.记存印模 C . C.参考印模 D . D.对颌牙印模 E . E.解剖式印模

A . A.印模膏 B . B.藻酸钠弹性印模材料 C . C.硅橡胶 D . D.琼脂 E . E.合成橡胶

A . 人工牙排列位置 B . 基托边缘位置与形态 C . 基托与黏膜密合程度 D . 基托磨光面形态 E . 基托组织面形态

A . A．轻轻拉上唇向上内数次 B . B．轻轻拉下唇向上内数次 C . C．轻轻拉颊部向前下内、下颊部向前上内数次 D . D．嘱患者相继发出"喔"、"嘿"等音 E . E．以上均不对

A . 便于操作 B . 能获得颌骨形态 C . 使组织能受压均匀 D . 可使印模边缘模糊 E . 可使边缘适度伸展

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 使组织均匀受压 D . 使用弹性印模材料 E . 保持托盘位置不动

A . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向下，下颌向前向上 B . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向下，下颌向后向上 C . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向上，下颌向前向下 D . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向上，下颌向后向下 E . 嘱患者轻轻活动唇颊部，并做吞咽、伸舌等动作

A . A.扩展印模范围，利于基托固位 B . B.利于基托边缘封闭 C . C.利于印模清晰、准确 D . D.为二次印模做准备 E . E.利于人工牙的排列

A . A.解剖式印模 B . B.静态印模 C . C.无压力印模 D . D.功能性印模 E . E.一次印模

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 不用使组织均匀受压 D . 使用弹性小的印模材料 E . 保持托盘一侧不动

A . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向下，下颌向前向上 B . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向下，下颌向后向上 C . 轻拉唇颊部，在上颌向前、向上，下颌向前向下 D . 轻拉唇颊部，在上颌向后、向上，下颌向后向下 E . 嘱患者轻轻活动唇颊部，并做吞咽、伸舌等动作

A . 人工牙排列位置 B . 基托磨光面形态 C . 基托组织面形态 D . 基托边缘位置与形态 E . 基托与黏膜密合程度

A . A．轻拉唇颊部，在上颌向前向下，下颌向前向上 B . B．轻拉唇颊部，在上颌向后向下，下颌向后向上 C . C．轻拉唇颊部，在上颌向前向上，下颌向前向下 D . D．轻拉唇颊部，在上颌向后向上，下颌向后向下 E . E．嘱患者轻轻活动唇颊部，并作吞咽、伸舌等动作

A . 解剖式印模 B . 功能式印模 C . 牙支持式义齿的印模 D . 黏膜支持式义齿的印模 E . 混合支持式义齿的印模

A . 尽可能扩大印模面积 B . 取功能性印模 C . 不用使组织均匀受压 D . 使用弹性小的印模材料 E . 保持托盘一侧不动

A . A.解剖式印模 B . 静态印模 C . 无压力印模 D . 功能性印模 E . 一次印模

A．0.5mm B．1～1.5mm C．2mm D．1.5～2mm E．2.5mm