试述对无牙颌模型的要求。

A . A.包括整个牙槽嵴 B . B.边缘伸展到唇、颊、舌黏膜转折处 C . C.上颌后缘伸展到腭小凹处 D . D.上颌两侧后缘伸展到翼上颌切迹，颊侧盖过上颌结节 E . E.下颌后缘盖过磨牙后垫

A . 记录上下托的关系 B . 将下颌托转移到架上 C . 将髁道斜度转移到架上 D . 将下颌对上颌的关系转移到架上 E . 将上颌对颞下颌关节的关系转移到架上

A . A．2mm B . B．4mm C . C．6mm D . D．8mm E . E．10mm

A . A．1～2mm B . B．2～3mm C . C．3～4mm D . D．4～5mm E . E．5～6mm

A . 6mm B . 8mm C . 10mm D . 15mm E . 以上均不正确

A . A.位于前颤动线 B . 位于后颤动线 C . 位于前后颤动线之间 D . 位于腭小凹前6mm E . 位于腭小凹前4mm

A . A.模型厚度3～4mm B . B.模型边缘的宽度3～4mm C . C.可形成上颌后堤区 D . D.下颌不可形成后堤区 E . E.后堤区可刮除石膏少许

A . A．节省基托材料 B . B．节省时间 C . C．增加义齿固位 D . D．消除基托对此区域的压迫 E . E．增加模型的美观与光洁

A . ＞60° B . ＜60° C . ＞80° D . ＜80° E . =70°

A . A．应在上下唇系带处制作后堤区 B . B．上颌硬区应制作后堤区 C . C．上颌后堤区位于口腔前庭沟内 D . D．上颌后堤区是上颌全口义齿后缘封闭区 E . E．颊棚区也称为后堤区

A . A.模型清晰并充分反映出无牙颌组织面的细微纹路 B . 模型边缘宽度以3～4mm为宜 C . 模型最薄处不少于10mm D . 上颌模型后缘止于腭小了凹前4mm E . 下颌模型后缘包括磨牙后垫

A . 1～2mm B . 2～3mm C . 3～4mm D . 4～5mm E . 5～6mm

A . 模型厚度3～4mm B . 模型边缘的宽度3～4mm C . 可形成上颌后堤区 D . 下颌不可形成后堤区 E . 后堤区可刮除石膏少许

A . A．基托伸展范围过大，会损伤粘膜组织 B . B．基托伸展范围不足，将使义齿的固位和支持力均受到影响 C . C．上颌印模后缘应盖过腭小凹和翼上颌切迹 D . D．下颌印模后缘应盖过磨牙后垫前缘 E . E．舌侧后缘伸展应越过下颌舌骨嵴舌侧翼缘区

A . 2mm B . 4mm C . 6mm D . 8mm E . 10mm

A . 基托伸展范围过大，会损伤粘膜组织 B . 基托伸展范围不足，将使义齿的固位和支持力均受到影响 C . 上颌印模后缘应盖过腭小凹和翼上颌切迹 D . 下颌印模后缘应盖过磨牙后垫前缘 E . 舌侧后缘伸展应越过下颌舌骨嵴舌侧翼缘区

A . A．模型厚度3～4mm B . B．模型边缘的宽度3～4mm C . C．可形成上颌后堤区 D . D．下颌不可形成后堤区 E . E．后堤区可刮除石膏少许

A . A.节省基托材料 B . B.节省时间 C . C.增加义齿固位 D . D.消除基托对此区域的压迫 E . E.增加模型的美观与光洁

A．包括整个牙槽嵴 B．边缘伸展到唇、颊、舌沟处 C．上颌后缘伸展到腭小凹处 D．上颌两侧后缘伸展到翼上颌切迹，颊侧盖过上颌结节 E．下颌后缘盖过磨牙后垫

A．模型边缘宽度应以3--5m为宜 B．模型最厚的地方不得超过10mm C．模型后缘应在聘小凹之后至少2mm D．下领模型的磨牙后垫自其前缘起不少于10mm E．模型最薄处不少于10m