半导体三极管工作过程中()。

A . 发射区杂质浓度大于基区杂质浓度; B . 发射区杂质浓度小于基区杂质浓度; C . 发射区杂质浓度等于基区杂质浓度; D . 发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

时间:2022-08-29 13:37:31 所属题库:电气值班员高级考试题库

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