车身上裸露的外表面受到飞石冲击的机会比内表面大，要在防腐蚀处理时使用刻蚀和转化涂料。
湿法刻蚀有什么缺点？
晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。
什么是湿法刻蚀？
高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。
在干法刻蚀中发生刻蚀反应的三种方法是（）、（）和（）。
比CT空间分辨率高是MRI的优点（）
与干法刻蚀相比，湿法腐蚀的好处在于对下层材料具有高的选择比，对器件不会带来等离子体损伤，并且设备简单。
彩色反转片的分辨率要比彩色负片的分辨率高。
STI隔离技术中，为什么采用干法离子刻蚀形成槽？
刻蚀的高选择比意味着只刻除想要刻去的那一层材料。
干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法，湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件，例如大于3微米。
高分辨率遥感图像比低分辨率处理困难的主要原因是（）。
干法腐蚀清洁、干净、无脱胶现象、图形精度和分辨率高。（）
干法纺丝溶液的浓度比湿法纺丝高，喷丝头孔数远比湿纺少，干纺速度总比熔纺低。
具有高分辨率的图像比分辨率低的图像包含（）的像素。
由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。
在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。
不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。
湿法刻蚀刻蚀槽中溶液主要成分包括______
3、铝进行干法刻蚀时，常常采用哪种物质？
什么是干法刻蚀？什么是湿法腐蚀？两者所形成的刻蚀剖面有何区别？
18、刻蚀要求均匀性好，保真度好，选择比高，清洁度高。
2、二氧化硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分主要包含
