按固定相的物理状态划分，气相色谱法又分为（）2种。
PVD沉积温度一般（）
缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。
有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法？
物理气相淀积主要有哪三种技术？
物理吸收溶剂的酸气负荷（）于气相中酸性组分的分压。
气相色谱仪能测定样品在固定相上的（）和比表面积等物理化学常数。
物理气相沉积（PVD）
物理气相沉积
低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比，优点有？
化学气相淀积
现PVD颜色产品中性盐雾时间要求（）
生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）
CVD是利用某种物理过程，例如蒸发或者溅射现象实现物质的转移，即原子或分子由源转移到衬底（硅）表面上，并淀积成薄膜。
物理气相沉积方法制得的铝层致密度高于一般铝箔。
46、金属钛常常采用PVD技术进行制备。
PVD设备可能会用到下述部件（）
常见的PVD薄膜制备方法包括
题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。
物理气相淀积主要可分为（)和（)两类。
物理吸收溶剂的酸气负荷气相中酸性组分的分压（）
STM32的EXTI线16连接到PVD输出。（)
7、以下技术属于物理气相沉积的有（）
