下列关于曝光后烘烤的说法正确的是()。

A . 烘烤的目的是除去光刻胶中的水分 B . 烘烤可以减轻曝光中的驻波效应 C . 烘烤的温度一般在300℃左右 D . 烘烤的时间越长越好

时间:2022-08-31 15:16:04 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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