一般在蚀刻操作中蚀刻和再生是同时进行的。
属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。
板子在蚀刻机内部进行蚀刻时，其位置放置形式有（）。
在蚀刻过程中，添加某些添加剂可以降低侧蚀程度。
晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
蚀刻温度对蚀刻速率的影响是随着温度的升高，蚀刻速率加快。
蚀刻液的种类有（）。
鼓泡式蚀刻和浸泡式蚀刻的不同之处在于（）。
在印制板的蚀刻操作中，希望有较高的蚀刻系数。
在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。
随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。
碱性蚀刻液再生方法有（）。
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
印制电路板中的图形蚀刻是指用化学溶液去掉铜箔而得到所需的电路图形的过程。
能用酸性蚀刻液蚀刻的工件就绝对不用碱性蚀刻液。
干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。
喷淋蚀刻的传送方式有（）和垂直传送方式。
在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。
湿法蚀刻的方式主要有（）。
喷淋蚀刻中使用的喷嘴的类型有（）。
在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻过度的原因可能有（）。
某商场项目设计文件中，中庭总高度为30m，该区域内采用10mm厚钢化玻璃全玻璃栏板。人口大厅处有若干无框蚀刻玻璃制作的隔断，规格达1800mmX 900mm，最薄处 厚度仅为10mm。项目部进行图纸会审的过程中认为上述做法不符合规范要求，而要求变 更设计文件。
某商场项目设计文件中，中庭总高度为30m该区域内采用10mm厚钢化玻璃全玻璃栏板。人口大厅处有若干无框蚀刻玻璃制作的隔断，规格达1800×900，最薄处厚度仅为10mm。项目部进行图纸会审的过程中认为上述做法不符合规范要求，而要求变更设计文件。根据背景资料，回答下列问题。下列关于人口大厅处的无框蚀刻玻璃的说法，正确的是（）
某商场项目设计文件中，中庭总高度为30m，该区域内采用10mm厚钢化玻璃全玻璃栏板。人口大厅处有若干无框蚀刻玻璃制作的隔断，规格达1800mmx900mm，最薄处厚度仅为10mm。项目部进行图纸会审的过程中认为上述做法不符合规范要求，而要求变更设计文件。根据背景资料，回答下列1~6问题。下列关于人口大厅处的无框蚀刻玻璃的说法，正确的是（）
