影响混凝处理效果的因素有水温、水的PH值、水中的杂质、接触介质和()。
对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、ni>>/ND-NA/时,半导体具有()半导体的导电特性。
影响混凝效果的因素有水温、水的PH、水中的杂质接触介质和()
汽油清洁性能的评定指标"机械杂质"与"杂质"的含义是一样的。
空气净化机具有脱臭的效果,在污浊的空气中能大量过滤刺激性的杂质,以下哪些选项属于空气中的杂质?()
影响混凝处理效果的因素有水温、水的pH值、原水中的杂质、接触介质和()
在半导体中掺人微量的有用杂质,制成掺杂半导体。掺杂半导体有()。
采用传统发酵工艺生产原料药必要时,应当验证培养基、宿主蛋白、其它与工艺、产品有关的杂质和()的去除效果。
汽油清洁性能的评定指标“机械杂质”与“杂质”的含义是一样的。
重量分析中,沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污,沉淀表面最优先吸附的离子是()
为提高燃油净化效果,沉淀柜中的重油应加热至50-60℃,并且酌情加入泥渣分散剂和疏水剂,以使油中悬浮杂质易于沉淀。
判断乙炔气中硫.磷等杂质清除效果的常用手段是()
水中的杂质对混凝效果没有任何影响。
在杂质固体颗粒的直径和密度相同,气体的密度相同,流动状态(沉流、过渡流、紊流)相同条件下,旋风分离器的分离效果比重分离器()
室温下,常见掺杂Si或Ge晶体的杂质都是全电离的。
扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的,即掺杂浓度大,扩散电流大;掺杂浓度小,扩散电流小。
◑在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()。◑A.温度◑B.掺杂工艺◑C.杂质浓度◑D.晶体缺陷
经过溶解后过滤所残留的杂质称为(),它会影响润滑效果,加速机件磨损;国标规定:加添加剂后的杂质含量不大于()。
1. 在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于 () A.温度 B.掺杂工艺 C.杂质浓度 D.晶体缺陷
判断:(1)气相外延时,能够通过使用低温硅源降低工艺温度来彻底避免自掺杂效应引起的杂质再分布。 (2)掺杂剂需要用氢稀释十~五十倍,以减小掺杂气体的流量误差。
为提高燃油净化效果,沉淀柜中的重油应加热至50£60℃,并且酌情加入泥渣分散剂和疏水剂,以使油中悬浮杂质易于沉淀。()
1、杂质的扩散掺杂两种方式: 和 。 2、实际扩散工艺采用两步扩散工艺,结合两种扩散工艺,分为 和 ,预淀积是惰性气氛下的 扩散,目的是 。再分布是惰性气氛下的 扩散,将窗口杂质再进一步向片内扩散,目的是 。 3、硅中点缺陷有 、 和 。 4、氧化增强与硅表面的取向有关,在干氧氧化时, 晶面的氧化增强的效果最强。 5、(判断)硅经扩散工艺掺入的杂质均已完全电离,无需再退火激活,这种说法是否正确。
5、能准确地反映中药泥土砂石等杂质的掺杂含量的检查项目是
6、扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的,即掺杂浓度大,扩散电流大;掺杂浓度小,扩散电流小。