由于岩石的成分组构不同，岩石的峰值期前的变形机理比较复杂，但大致可以归纳为（）。
WAO（湿式氧化）反应机理比较复杂，根据有关研究提出的氧化反应主要属于自由基反应，通常分为三个阶段，其中没有（）阶段。
在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。
杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。
扩散性半导体应变计是将N型咋杂质扩散到高阻的P型硅基片上,形成一层极薄的敏感层制成的
扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。
WAO（湿式氧化）反应机理比较复杂，一般认为，主要属于（）
当温度一定时，杂质半导体的费米能级主要由什么因素决定？试把强n，弱n型半导体与强p，弱p半导体的费米能级与本征半导体的费米能级比较。
采用过滤法除去污水中的杂质时，其所包含的机理很多，从性质上来说一般可分为（）种作用。
半导体按掺入杂质性质不同可分为哪两类？
热中子在介质中的扩散，直至被该介质的原子核俘获为止。描述这一物理过程和主要参数是什么？
在多晶体中，晶界是原子（离子）快速扩散的通道，并容易引起杂质原子（离子）偏聚，同时也使晶界处熔点（）晶粒；晶界上原子排列混乱，存在着许多空位、位错和键变形等缺陷，使之处于应力畸变状态。
陶瓷生产工艺过程比较复杂，但基本的工艺可分为（）、（）、（）等三大步骤。
扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的，即掺杂浓度大，扩散电流大；掺杂浓度小，扩散电流小。
4、扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的，即杂质浓度大，扩散电流大；杂质浓度小，扩散电流小。
下面（)选项所描述的扩散是：利用保护性气体把杂质源蒸汽携带入石英管内，杂质在高温下分解，并与衬底表面的硅原子发生反应，杂质原子向硅片内部扩散。
按激发和发射机理，原子荧光可分为（）
重排反应是指在同一分子内，某一原子或基团从一个原子迁移至另一原子而形成新分子的反应。其按机理可分为？（)
中草药及其制剂引致不良反应的机理比较复杂，临床表现多样，可发生在人体各个系统，反应程度轻重不一，其中以过敏反应和毒性反应为多见。
WAO（湿式氧化)反应机理比较复杂，根据有关研究提出的氧化反应组要属于自由基反应，通常分为三个阶段，其中没有（)阶段。
杂质半导体可分为______型半导体和______型半导体。
6、扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的，即掺杂浓度大，扩散电流大；掺杂浓度小，扩散电流小。
18、根据扩散杂质在晶格中的位置不同，将扩散分为
6、根据扩散杂质在晶格中的位置不同，将扩散分为
